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Ohne die Verwendung von ALN werden Gerätehersteller auf Gebäude III-Nitrid-basierte Geräte auf suboptimalen Substraten wie Saphir- oder Siliziumkarbid (SIC) verwiesen und sind daher gezwungen, exotische und manchmal teure Fertigungstechniken umzusetzen, um das Mismatch in Materialien zu kompensieren, häufig mit suboptimaler Mismatch in Material
Aluminiumnitrid (ALN) -Wafer sind zentrale Materialien in verschiedenen High-Tech-Industrien, die für ihre außergewöhnlichen thermischen und elektrischen Eigenschaften bekannt sind. Diese Keramiksubstrate bieten eine einzigartige Kombination aus hoher thermischer Leitfähigkeit, ausgezeichneter elektrischer Isolierung und robuster mechanischer Stärke, was sie in Anwendungen unverzichtbar macht
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